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光刻技术及实验操作
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55光刻 曝光 刻蚀 光源 曝光方式 光刻概述 光刻概述 评价光刻工艺可用三项主要的标准：分辨率、对准精度和生产效率。 1.利用旋转涂敷法在硅片表面上涂一层光刻胶; 2.利用光通过掩膜版对光刻胶选进行
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目录摘要 3.1掩模版 3.2光刻胶 3.2.1光刻胶的作用 3.2.2光刻胶的主要技术参数 3.2.3光刻胶的分类 3.3光刻机 4.1简介 4.2光刻蚀工艺概况 105.集成电路所采用的光刻技术
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向豆丁求助：有没有光刻技术?

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