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高温离子注入靶盘简介.doc
高温离子注‎入厚度的二氧‎化硅层，是控制注入‎缺陷、保证二氧化‎硅埋层厚度‎均匀的关键‎因素[3]。可见，无论是碳化‎硅材料掺杂‎还是SIM‎OXSOI材料‎制备，高温离子注‎入靶技术已‎成为制约碳‎
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飞镖靶盘的计分说明.doc
竞赛中，必须使用由中国飞镖协会指定或认定的、符合国际标准的20等分琼麻质地的镖盘。 （二）分值区：此区为镖盘外圈标定分数的本分值区。 （三）双倍区：镖盘外圈的狭窄圈环，为各分值区的两倍。 （四）三倍区
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一种改善旋转阳极靶轨道层龟裂缺陷的结构及靶盘.pdf
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一种注入靶盘改良方法.pdf
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一种阳极靶盘的焊接方法.pdf
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一种X射线阳极靶盘及其制备方法.pdf
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一种SiC注入用高温加热靶盘.pdf
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一种矫正离子注入靶盘剂量差异的装置.pdf
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用于重频激光打靶的分立式可装卸靶盘.pdf
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离子注入机靶盘吊具及离子注入机.pdf
离子注入机靶盘吊具及离子注入机离子注入机靶盘吊具及离子注入机离子注入机靶盘吊具及离子注入机
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