金属诱导法制备多晶硅薄膜的研究进展
本文档由 科技论文 分享于2011-02-15 16:03
多晶硅薄膜材料已广泛应用于太阳能电池和集成电路制造等领域。本文综述了金属诱导非晶硅薄膜进行低温晶化的研究, 讨论了金属诱导法的晶化机理, 分析了金属诱导晶化过程中的主要影响因素, 对不同的金属诱导法进行比较, 展望了金属诱导法的进一步发展。
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