氩气压强对直流磁控溅射ZnO_Al薄膜结构和性能的影响
本文档由 wang5945 分享于2010-01-02 10:52
基于Al2O3 掺杂量为3wt %的氧化锌铝陶瓷靶材,采用直流无反应磁控溅射法在载玻片衬底上制备了ZnO∶Al 透明导电薄膜。研究了氩气压强对薄膜微观结构和光电性能的影响。结果表明:氩气压强对薄膜的平均透光率影响微小,其值均在86 %以上,但对薄膜的微观结构和方块电阻有非常明显的影响。随着氩气压强的增大,薄膜的晶粒形状由片状向球状变化,并呈现出c 轴择优生长特性。氩气压强在0. 6～3. 0Pa 范围内增长时,薄膜的方块电..
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