离子注入设备原理与应用

在现代的半导体制造过程中运用了多种先进的工艺技术,离子注入就是其中的一种。它的作用主要是向硅衬底中注入一定数量和能量的杂质,以改变硅衬底中特定区域的电学性能。因为离子注入技术在实际的应用中,具有极高的工艺可重复性和对掺杂浓度和深度优良的控制能力,它已经成为了半导体制造过程