半导体
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- 时间：2015-04-26
在现代的半导体制造过程中运用了多种先进的工艺技术,离子注入就是其中的一种。它的作用主要是向硅衬底中注入一定数量和能量的杂质,以改变硅衬底中特定区域的电学性能。因为离子注入技术在实际的应用中,具有极高的工...
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离子注入制备Si基InAs量子点离子注入
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脉冲钨离子注入导致的空洞效应鑴夊啿,鏁堝簲
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便携式离子注入型半导体核辐射仪的研制杈愬皠
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gic-4117hc1.7mv tandetron上的mev离子注入系统
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金属工业离子注入机项目可行性研究报告
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Ni离子注入纯铜的表面改性
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